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99.99% शुद्ध टाइटेनियम डिस्क 4n उच्च शुद्धता Ti धातु स्पटरिंग लक्ष्य कम घनत्व

10 टुकड़े
MOQ
Negotiable
कीमत
99.99% शुद्ध टाइटेनियम डिस्क 4n उच्च शुद्धता Ti धातु स्पटरिंग लक्ष्य कम घनत्व
विशेषताएं गेलरी उत्पाद विवरण एक बोली का अनुरोध
विशेषताएं
निर्दिष्टीकरण
मॉडल संख्या: TiP0001
आकार: डिस्क
सामग्री: टाइटेनियम
पवित्रता: 99.99%
रासायनिक संरचना: ती
आवेदन पत्र: वैक्यूम कोटिंग
हाई लाइट:

99.99% मेटल स्पटरिंग टारगेट

,

99.99% टाइटेनियम स्पटरिंग टारगेट

,

टाइटेनियम डिस लो डेंसिटी

मूलभूत जानकारी
उत्पत्ति के प्लेस: हेनान
ब्रांड नाम: GNEE
प्रमाणन: ISO 9001
मॉडल संख्या: टाइटेनियम डिस्क
भुगतान & नौवहन नियमों
पैकेजिंग विवरण: मानक समुद्र योग्य पैकिंग
प्रसव के समय: 5-8 कार्य दिवस
भुगतान शर्तें: एल/सी, डी/ए, डी/पी, टी/टी, वेस्टर्न यूनियन, मनीग्राम
आपूर्ति की क्षमता: 20000 टुकड़ा / टुकड़े प्रति माह
उत्पाद विवरण

शुद्ध टाइटेनियम 99.99% 4n डिस्क उच्च शुद्धता Ti धातु स्पटरिंग लक्ष्य

टाइटेनियम धात्विक और तन्य है।ध्वनि 5,090 मी/से की दर से यात्रा करती है।टाइटेनियम की मुख्य विशेषताएं कम घनत्व, उच्च यांत्रिक शक्ति और आसान प्रसंस्करण हैं।नए टाइटेनियम मिश्र धातु में अच्छा गर्मी प्रतिरोध है और इसे 600 ℃ या उच्च तापमान पर लंबे समय तक इस्तेमाल किया जा सकता है।


अशुद्धता सामग्री
अनुपात
Ti-75Al% पर
Ti-70Al% पर
Ti-67Al% पर
Ti-60Al% पर
Ti-50Al
पर%
Ti-30Al
पर%
Ti-20Al
पर%
Ti-14Al
पर%
शुद्धता (%)
99.7
99.7
99.7
99.7
99.8/99.9
99.9
99.9
99.9
घनत्व
(जी / सेमी 3)
3.1
3.2
3.3
3.4
3.63/3.85
3.97
4.25
4.3
अनाज का आकार (माइक्रोन)
100
100
100
100
100/-
-
-
-
उत्पादन
नितंब
नितंब
नितंब
नितंब
हिप/वर
वीएआर
वीएआर
वीएआर

 


हम धातु, मिश्र धातु, सिरेमिक सामग्री जैसे विभिन्न स्पटरिंग लक्ष्यों की आपूर्ति करते हैं, जो ग्लास कोटिंग, ऑप्टिकल कोटिंग, सोलर सेल कोटिंग, डेटा स्टोरेज और सेमीकंडक्टर्स के क्षेत्र में लागू होते हैं। सामग्री की आपूर्ति के अलावा, हम कस्टम उत्पादों की पेशकश भी करते हैं।अधिक जानकारी के लिए हमसे संपर्क करने के लिए नि: शुल्क। हम अनुसंधान और विकास क्षेत्रों में अपने ग्राहकों की सहायता के लिए अनुसंधान सामग्री की आपूर्ति भी करते हैं।

99.99% शुद्ध टाइटेनियम डिस्क 4n उच्च शुद्धता Ti धातु स्पटरिंग लक्ष्य कम घनत्व 0

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